El proceso que modela del proceso micro-nano se divide principalmente en dos tecnologías: transferencia del modelo y proceso directo. La tecnología que graba al agua fuerte de rayo láser tiene capacidad de la escritura directa, evitando el proceso de varias fases de la transferencia del modelo, y produce directamente microestructuras tridimensionales en el material controlando el de rayo láser de alta energía enfocada. Tiene película del submicron que graba al agua fuerte procesando exactitud y es conveniente para una variedad de materiales.
La fotolitografía es transferir el modelo hecho en la máscara de la fotolitografía a la superficie del substrato. Ninguna materia se procesa qué clase de dispositivo micro, el proceso de proceso micro se puede analizar en uno o más ciclos de los tres pasos de proceso de la deposición, de la fotolitografía y de la aguafuerte de la película. La litografía está en la vanguardia del proceso de fabricación de MEMS, y su resolución de gráficos, exactitud cubierta y otras propiedades afectan directamente al éxito o al fracaso de procesos subsiguientes.
la tecnología de fabricación Micro-nana refiere a la tecnología del diseño, del proceso, de la asamblea, de la integración y del uso de partes con dimensiones de milímetros, los micrómetros, y los nanómetros, así como los componentes o los sistemas integrados por estas piezas. la tecnología de fabricación Micro-nana es los medios básicos y la fundación importante para la fabricación de micro-sensores, de micro-actuadores, de microestructuras y de sistemas micro-nanos funcionales.